Sodium Laureth Sulfate стоит на второй позиции и выполняет основную очищающую функцию. Следом идут Cocamidopropyl Betaine и Sodium Cocoamphoacetate. Эти ПАВ помогают гелю пениться и смывать кожный жир. Их сочетание может очищать довольно интенсивно, особенно при частом использовании или уже нарушенном защитном барьере.

Риск раздражения Aurora оценивает в 53 из 100. На него влияют прежде всего моющая основа, отдушка на десятой позиции и кислоты в конце списка. Cocamidopropyl Betaine также может вызывать индивидуальную реакцию у чувствительной кожи. Copper Sulfate находится на восьмом месте и участвует в работе формулы, однако тоже способен усиливать дискомфорт при высокой чувствительности.

Parfum занимает десятую позицию. Вместе с растительными компонентами он может иметь значение для кожи, склонной к аллергическим реакциям. В составе есть сок водяники на пятом месте, а экстракты огурца, гинкго и ромашки стоят с двадцать первой по двадцать третью позиции. Риск аллергии получил 48 из 100, поэтому при известной реакции на ароматизаторы лучше учитывать наличие отдушки.

Салициловая кислота указана двадцатой. Перед ней находятся Nordihydroguaiaretic Acid и Oleanolic Acid на восемнадцатой и девятнадцатой позициях. Эти компоненты часто добавляют в средства для жирной и проблемной кожи, но их место ближе к концу списка ограничивает ожидания от активной части формулы. Это согласуется с невысокой оценкой силы активов.

Propylene Glycol, Butylene Glycol, Caprylyl Glycol и Glycerin помогают удерживать влагу. При этом увлажняющая часть уступает по позиции очищающим компонентам. Выраженных барьерных липидов, таких как церамиды, холестерин или жирные кислоты, здесь нет. Поэтому поддержка барьера у Aurora получила только 5 из 100.

Гель может подойти жирной и комбинированной коже, если она хорошо переносит пенящиеся средства и отдушку. При сухости, стянутости, чувствительности или повреждённом барьере следите за ощущениями после умывания. От этого продукта не стоит ждать выраженного кислотного ухода: салициловая кислота и большинство растительных экстрактов расположены в хвосте состава.