Масло ши занимает вторую позицию и формирует смягчающую основу средства. Оно помогает уменьшить потерю влаги и поддерживает защитный слой кожи. Его дополняют глицерил стеарат, цетеариловый спирт и диметикон. Эти компоненты смягчают кожу, улучшают распределение средства и оставляют более гладкое покрытие.

Парфюмерная композиция находится на третьем месте. Такое высокое положение указывает на заметную долю отдушки по сравнению с большинством остальных компонентов. Вместе с денатурированным спиртом на шестой позиции она влияет на оценки Aurora по риску раздражения и аллергии. Риск раздражения получил 37 из 100, риск аллергии составил 44 из 100. Это особенно значимо для реактивной кожи и при чувствительности к ароматизированной косметике.

Денатурированный спирт облегчает текстуру и помогает средству быстрее высыхать после нанесения. При склонности к сухости он может усиливать чувство стянутости. При этом масло ши, бутиленгликоль и глицерин частично компенсируют такой эффект за счёт смягчения и удержания воды.

Увлажняющая часть формулы включает бутиленгликоль, глицерин и каприлилгликоль. Глицерин занимает восьмое место, поэтому он не относится к ведущим компонентам состава. Поддержку барьера обеспечивают в первую очередь масло ши, жирный спирт и диметикон. Оценки увлажнения и поддержки барьера остаются умеренно низкими, поскольку формула больше сосредоточена на текстуре, смягчении и аромате.

Сила активов получила 4 из 100. В составе нет кислот, ретиноидов, витаминов, пептидов или выраженного комплекса успокаивающих компонентов. Феноксиэтанол расположен в середине второй половины списка и защищает формулу от порчи. Полиакриламид, цетеарет-22, изопарафин, ксантановая камедь и лаурет-7 отвечают преимущественно за консистенцию и стабильность.

Средство может подойти нормальной коже, если вам нужна ароматизированная смягчающая текстура. При сухой или чувствительной коже лучше сначала проверить его на небольшом участке. Если вы ждёте интенсивного увлажнения, восстановления барьера или активного ухода, формула предлагает мало профильных компонентов.