Порошок стебля бамбука стоит на четвёртом месте и задаёт маске выраженные скрабирующие свойства. Его дополняют порошок риса на седьмой позиции, порошок рисовой шелухи на тринадцатой и порошок семян коикса на девятнадцатой. Размер и форма частиц в INCI не указаны, поэтому по списку нельзя оценить, насколько мягко они воздействуют на кожу. При использовании лучше не давить на лицо и не растирать маску долго.

Кукурузный крахмал занимает третью позицию. Он помогает впитывать излишки кожного сала и влияет на плотность текстуры. Нитрид бора на шестом месте придаёт средству скольжение, благодаря чему частицы могут распределяться по коже равномернее.

Увлажняющая поддержка у формулы умеренная, Aurora оценивает её в 49 из 100. Глицерин находится вторым, бетаин восьмым, бутиленгликоль десятым. Sodium Hyaluronate тоже удерживает влагу, но завершает список, поэтому его доля сравнительно невелика. Экстракты картофеля, риса и овса дополняют формулу, однако по одному INCI нельзя судить об их концентрации и выраженности действия.

Риск аллергической реакции получил 35 из 100. Основной компонент, на который здесь стоит обратить внимание, Fragrance на восемнадцатой позиции. Отдушка может быть нежелательна при чувствительности к ароматизированной косметике. Механические частицы дополнительно повышают вероятность дискомфорта, особенно если кожа уже раздражена или вы используете кислоты и ретиноиды.

Поддержка защитного барьера выражена слабо. Токоферол, гидрогенизированный лецитин и Ceramide NP расположены ближе к концу списка. Смягчающие компоненты Ethylhexyl Palmitate и Caprylic/Capric Triglyceride тоже находятся во второй половине формулы. После смывания маски коже может понадобиться привычный увлажняющий крем.

Маска подойдёт вам, если вы ищете именно механическое отшелушивание и хорошо переносите отдушки. При чувствительной коже сначала проверьте средство на небольшом участке и сократите интенсивность массажа. В формуле нет кислотных и ферментных эксфолиантов, поэтому обновление кожи здесь строится прежде всего на работе растительных частиц.