Paraffinum Liquidum стоит третьим и формирует заметную долю смягчающей основы. Рядом находятся Cyclopentasiloxane, Polyisobutene и Lauryl PEG/PPG-18/18 Methicone. Они помогают средству распределяться по коже, уменьшают потерю влаги и создают гладкое покрытие.

Aluminum Starch Octenylsuccinate занимает четвёртую позицию. Он впитывает излишки кожного сала и снижает ощущение жирности, которое могла бы дать такая основа. Sodium Chloride регулирует густоту формулы.

Увлажняющий блок начинается с Glycerin на седьмом месте. Следом расположен Propylene Glycol, который удерживает влагу и помогает растворять другие компоненты. Squalane и Panthenol находятся в середине списка. Сквалан смягчает кожу, а пантенол поддерживает её при сухости и дискомфорте. Tocopheryl Acetate и Ascorbyl Palmitate дополняют формулу жирорастворимыми производными витаминов E и C, но стоят ниже основных компонентов базы.

Риск закупорки пор Aurora оценивает в 35 из 100. На эту оценку могут влиять Isostearyl Alcohol, PEG-40 Hydrogenated Castor Oil и Ascorbyl Palmitate. Реакция зависит от кожи и от того, как средство сочетается с остальным уходом. Силиконы сами по себе создают гладкую плёнку, поэтому очищению вечером лучше уделить внимание.

Риск аллергии получил 34 из 100. Parfum находится ближе к концу списка, поэтому его доля ниже, чем у компонентов основы. Для реактивной кожи даже такое положение отдушки может иметь значение. Phenoxyethanol, Methylparaben и Propylparaben завершают основную часть списка и защищают продукт от порчи. Потенциальное раздражение также может быть связано с отдушкой, Phenoxyethanol и Propylene Glycol.

Формула может подойти нормальной и сухой коже, если вам комфортны плотные смягчающие компоненты и силиконовое покрытие. При чувствительности к ароматизаторам лучше сначала проверить средство на небольшом участке. При склонности к закрытым комедонам наблюдайте за реакцией кожи. Гиалуроновой кислоты, мочевины и церамидов здесь нет, поэтому увлажнение строится преимущественно на глицерине, пропиленгликоле, сквалане и защитной основе.