Cyclopentasiloxane стоит вторым и формирует лёгкое скользящее покрытие, которое помогает равномерно распределить основу под макияж. Следом идут Polyglyceryl-3 Diisostearate и Glycerin. Первый связывает компоненты формулы и смягчает кожу, второй удерживает влагу.

За гладкость и визуальное выравнивание отвечают несколько силиконов. Dimethicone Crosspolymer и Dimethicone/Vinyl Dimethicone Crosspolymer создают эластичную текстуру и заполняют мелкие неровности рельефа. Caprylyl Methicone облегчает распределение. Isododecane помогает покрытию быстрее фиксироваться и уменьшает ощущение жирности. Polymethylsilsesquioxane придаёт поверхности более сухой и бархатистый вид.

Silica тоже поглощает избыток себума и поддерживает матовый финиш. Она находится на пятнадцатой позиции, поэтому её доля ниже, чем у основной силиконовой группы в первой половине списка. У очень сухой кожи сочетание абсорбирующих компонентов и быстро фиксирующейся основы может подчеркнуть шелушения.

Риск аллергии Aurora оценивает в 49 из 100. На него влияют Parfum, Diazolidinyl Urea и консерванты из группы парабенов. Отдушка стоит на восемнадцатой позиции, близко к концу списка. Её сравнительно низкое место не исключает индивидуальной реакции. Diazolidinyl Urea находится выше, на четырнадцатой позиции. Этот консервант защищает формулу от микробной порчи, но чувствительная кожа может реагировать на него раздражением или контактной аллергией.

Риск раздражения составляет 30 из 100. Помимо отдушки и Diazolidinyl Urea, внимание может потребовать Propylene Glycol. Он работает как растворитель и увлажняющий компонент, хотя у реактивной кожи иногда вызывает дискомфорт. Tocopheryl Acetate поддерживает антиоксидантную часть формулы, а Butylhydroxytoluene помогает замедлять окисление продукта.

Основа подойдёт вам, если нужен гладкий матовый финиш и кожа нормально переносит силиконы, отдушки и перечисленные консерванты. При чувствительности лучше сначала проверить продукт на небольшом участке. В формуле нет выраженного комплекса успокаивающих компонентов, поэтому она ориентирована прежде всего на текстуру и контроль блеска.